Innovative Strahlführungskonzepte revolutionieren Mikrobearbeitung mit Ultrakurzpulslaser - neue Diodenlaser-Technologie senkt Energieverbrauch drastisch - hochenergetische Laserverstärker machen Elektronenbewegungen auf mikroskopischer Ebene sichtbar.

Das Hochtechnologieunternehmen TRUMPF wird vom 26. bis 29. Juni 2017 auf der Fachmesse LASER – World of Photonics in München neue Konzepte und Technologien für die Lasertechnik von morgen vorstellen. Klaus Löffler, Geschäftsführer und Vertriebsleiter der TRUMPF Lasertechnik GmbH, kündigt voller Vorfreude an: „Für uns wird das eine Messe der Superlative, wir können den Showdown kaum erwarten. Wir wollen unseren Besuchern in München zeigen, wie wir uns die Zukunft der Lasertechnik vorstellen, welche Technologien immer relevanter werden und was für Vorteile sich daraus für den industriellen und wissenschaftlichen Einsatz ergeben.“

Revolution bei Ultrakurzpulslaser
Besonderes Augenmerk genießt hierbei ein neues Strahlführungskonzept für Ultrakurzpulslaser. TRUMPF wird in München eine Technologiestudie vorstellen, die das Potenzial hat, die Lasermaterialbearbeitung mit Ultrakurzpulslaser zu revolutionieren. Hintergrund: Mit dem aktuellen Stand der Technik lassen sich ultrakurze Laserpulse nicht ohne Weiteres durch eine flexible Glasfaser in Richtung Werkstück schicken. Warum? Weil der Laserpuls aufgrund seiner hohen Intensität die Glasfaser zerstört. TRUMPF wird auf der LASER ein neues Konzept vorstellen, welches dieses Problem umgeht und neue Möglichkeiten der flexiblen Integration von Laser in Maschinen und Anlagen ermöglicht. Wie das Ganze technisch funktioniert, will das Unternehmen in München genauer erläutern und vorführen. „Wir haben es hier mit einem echten ‚Game Changer‘ zu tun“, erklärt Löffler. „Das, was das erste industriell einsetzbare Laserlichtkabel vor rund 30 Jahren war, nämlich der Durchbruch für Festkörperlaser, ist das neue Strahlführungskonzept heute für die Ultrakurzpulslaser.“ Übrigens: Das erste industrietaugliche Laserlichtkabel wurde von HAAS-LASER (heute: TRUMPF Laser) in Schramberg eingeführt.

Für Industrie und Wissenschaft
Weiteres Highlight aus der Zukunftsecke ist die neue Diodenlaser-Technologie. TRUMPF stellt die Weichen auf eine „grüne Produktion“ in der industriellen Fertigung. In München wird der Laserpionier einen Diodenlaser vorstellen, der sich nicht nur für konventionelle Anwendungen wie Löten, Härten und Laserauftragsschweißen eignet, sondern auch in industrielle Applikationen vorstößt, die eine deutlich bessere Strahlqualität erfordern. Klarer Vorteil der Diodenlaser-Technologie ist ihr hoher Wirkungsgrad. Das macht den Diodenlaser ausgesprochen energieeffizient.

Für Anwendungen im Wissenschaftssektor hat TRUMPF die Dira Produktserie in seinem Produktportfolio und auch auf dem Messestand in München. Hierbei handelt es sich um Laserverstärker, die Pikosekundenpulse mit hoher Energie bei gleichzeitig hohen Repetitionsraten liefern, um damit etwa optisch parametrische Verstärker zu pumpen. Solche Verstärker ermöglichen es, Femtosekundenpulse mit nur wenigen Schwingungen des elektrischen Feldes, sogenannte few-cycle Pulse, zu erzeugen. Damit wiederum generieren Wissenschaftler Attosekundenpulse und untersuchen beispielsweise hochdynamische Elektronenbewegungen auf molekularer Ebene. Die Grundlagenforscher gewinnen so neue Erkenntnisse für Anwendungen in der Medizin, Biologie und Chemie.

Von der Zukunft in die Gegenwart
Abgesehen von diesen Zukunftstechnologien wird TRUMPF seinen Besuchern auf der Messe in München auf über 600 Quadratmetern Fläche zahlreiche Weltpremieren und Neuheiten präsentieren, die schon heute in Produktionshallen im Einsatz sind oder deren Markteinführung kurz bevorsteht. Aus der vor wenigen Wochen eingeführten neuen Scheibenlasergeneration wird das zweite TruDisk Modell Weltpremiere feiern, ebenso eine komplett neue Produktreihe von Markierlasern. Allgegenwärtig bleibt TruConnect, die TRUMPF Technologie für die vernetzte Fertigung und Industrie 4.0. Im Fokus hierbei stehen die Condition Based Services für zukünftige Zustands- und Trendanalysen vernetzter Lasernetzwerke.