BVL,  Stand G24 / Halle 11
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Reinigungsanlage erfüllt High Purity Anforderungen der Halbleiterindustrie

Im Rahmen gezielter Testreihen im Technikum der BvL Oberflächentechnik GmbH wurde die Reinigungsleistung der Tauchreinigungsanlage Atlantic im Hinblick auf Anforderungen der Halbleiterzulieferindustrie überprüft. Ziel war eine partikuläre und molekulare Reinigung, mindestens auf dem für ultrahochvakuumtaugliche Anwendungen typischen Grade 2-Niveau.


Im Test wurden Bauteile mit komplexer Geometrie aus Titan und Aluminium gereinigt, die unter anderem Kapillaren und Hinterschneidungen aufwiesen. Die Atlantic-Anlage bewältigte diese Herausforderung mit stabilen Prozessergebnissen und ist damit eine Kombination aus Effizienz, Prozesssicherheit und Flexibilität - genau abgestimmt auf die Bedürfnisse von Clean Service Providern (CSP).


Die Reinigungsanlage im Technikum verfügt über neun Prozessstationen, darunter sieben Reinigungs- und zwei Trocknungsbecken. Eingesetzt werden u. a. Ultraschallmodule mit 40 kHz und 75 kHz, HEPA H13-gefilterte Heißluft- und Vakuumtrocknung, Feinstfiltration, kontinuierliche pH- und Leitwertüberwachung sowie frei programmierbare Reinigungsabläufe. Der Reinigungsprozess selbst erfolgt in mit VE-Wasser angesetzten Reinigungsbädern – sowohl alkalisch als auch sauer. Die anschließenden Spülprozesse sind entscheidend für High Purity Anwendungen. Sie werden mit Stadtwasser sowie Reinstwasser (Ultra Pure Water / UPW) durchgeführt. Das eingesetzte UPW wird von einer EnviroFALK Reinstwasseraufbereitungsanlage bereitgestellt. Diese ist mit Komponenten wie Partikelfiltration, Enthärtung, Umkehrosmose, UV-Entkeimung, Ionenaustausch, Nano-Ultrafiltration und TOC-Messung ausgestattet. Mit einer Aufbereitungsleistung von 300 l/h werden ausgezeichnete Wasserwerte erzielt:


Leitwert: 0,06 µS/cm

TOC-Wert: 13,58 ppb


Validierte Ergebnisse im High Purity Bereich

Vor und nach der Reinigung erfolgen erste visuelle Untersuchungen im firmeneigenen Dark Room. Mittels UV- und Bright Light werden die Bauteile auf Partikel und flecken untersucht. Die Resultate werden anschließend im Labor mittels PCM bestätigt und dokumentieren die hohe Leistungsfähigkeit des Atlantic-Systems:


Partikelreinheit (PMC) – Ziel: Grade 1

≥ 0,5 μm:       650.000 Partikel/m² (Grenzwert: 2.000.000)

≥ 5,0 μm:       17.000 Partikel/m² (Grenzwert: 20.000)

≥ 10,0 μm:     0 Partikel/m² (Grenzwert: 1.000)

Ausgasungsraten bei Restgasanalyse (RGA) – Ziel: Grade 2

H₂O:   2,71E-4 mbar·l/s

CₓHᵧ v: 2,53E-7 mbar·l/s

CₓHᵧ nv:         2,80E-8 mbar·l/s


Auch die gewünschten atomar-prozentualen Belastungen an HIO-Elementen bzw. die Elemental Surface Contamination können im Reinigungsprozess erreicht werden.


Die Ergebnisse zeigen, dass mit der Atlantic-Anlage eine reproduzierbare Reinigung für sensible High Purity-Anwendungen erreichbar ist – ein zentraler Aspekt in Bereichen wie der Halbleiter- oder Vakuumtechnik.


Neues Verfahren bei BvL

Für besonders anspruchsvolle Bauteilgeometrien bietet BvL ab sofort ein neues Verfahren zur industriellen Feinstreinigung an: die Vakuum Impuls Technik (VIT). Das innovative Druckwechselverfahren verbessert gezielt den Medienaustausch und Schmutzlöseeffekt in schwer zugänglichen Strukturen. VIT kommt ergänzend in ausgewählten High Purity Anwendungen zum Einsatz – insbesondere dort, wo herkömmliche Verfahren an ihre Grenzen stoßen. Dieses Verfahren wird in Korbreinigungsanlagen eingesetzt.


Nähere Informationen zu High Purity finden Sie hier: https://www.bvl-cleaning.com/de/anwendungen/high-purity

Verantwortlich für den Inhalt dieser Pressemitteilung: BvL Oberflächentechnik GmbH

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